技術概要
本技術は、流体圧力を高精度かつ高速に調整するパイロット型整圧器に関する革新的な発明です。主レギュレータの下流にベンチュリ効果発生手段を配置し、流体の通過によって局所的に陰圧を生成。この陰圧と実際の二次側圧力を複数のポートで検知し、フィードバックラインを通じてパイロットレギュレータの制御に活用することで、従来の課題であった圧力オフセットを大幅に低減し、同時に高い応答性を実現します。これにより、製造プロセスにおける品質の安定化、歩留まりの向上、および生産効率の最大化に貢献します。
メカニズム
本技術は、主レギュレータに加え、その下流にベンチュリ効果発生手段を備える点が特徴です。このベンチュリ効果発生手段は、流体の通過時に流速を加速させ、局所的に二次側圧力より低い陰圧PVを発生させます。さらに、二次側ラインの実際の流体圧力P2Rを検知する第1検知ポートと、陰圧PVを検知する第2検知ポートを設け、これらをフィードバックラインで連結。第1検圧室をフィードバックラインの途中に接続することで、主弁体の駆動圧力を精密に制御します。この多点検知とベンチュリ効果による陰圧利用の組み合わせが、オフセット低減と高速応答性を両立させる核心メカニズムです。
権利範囲
AI評価コメント
本特許は、残存期間13.8年と長期にわたり、事業の安定的な基盤を築ける優良なSランク特許です。請求項数10項と権利範囲が広く、わずか2件の先行技術文献数から技術の独自性が高く評価されます。一度の拒絶理由通知を克服した経緯は、審査官の厳しい審査を通過した強固な権利であることを示しており、無効化リスクが低いと判断できます。この高い技術的優位性と安定した権利基盤は、市場における競争力確保に大きく貢献するでしょう。
| 比較項目 | 従来技術 | 本技術 |
|---|---|---|
| オフセット低減性能 | △(負荷変動で発生しやすい) | ◎ |
| 応答速度 | ○(調整に時間を要する場合がある) | ◎ |
| 制御安定性 | ○(外部要因に影響されやすい) | ◎ |
| 既存システムへの適合性 | ○(調整が必要な場合が多い) | ◎ |
製造ラインにおける圧力変動に起因する不良品発生率を現状の3%から1%へ2%改善した場合、年間生産量50万個、製品単価1,000円と仮定すると、年間1,000万円の不良品コスト削減が見込めます(50万個 × 1,000円 × 2%)。さらに、応答性向上により生産サイクルタイムが平均で5%短縮され、年間生産性が向上することで、年間1,500万円相当の追加収益機会が創出されると試算されます。
審査タイムライン
横軸: 制御精度
縦軸: 応答性